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【科技前沿】哈工大在二氧化鈦界面工程方面取得重要進展

2018年08月21日 11:14 4336次瀏覽 來源:   分類: 鈦資訊

      日前,在國家自然科學基金、中國博士后科學基金會“香江學者”計劃支持下,哈爾濱工業(yè)大學化工與化學學院青年教師于耀光與香港城市大學張瑞勤教授課題組合作在二氧化鈦界面工程方面取得重要進展。研究成果以“活性異原子調(diào)制金紅石型二氧化鈦(110)晶面間隙態(tài)”為題發(fā)表在國際化學領域著名期刊《德國應用化學》(Angew. Chem. Int. Ed.,2018,57,8550 –8554,影響因子12.102)上。于耀光為第一作者,哈工大為第一署名單位。

該論文采用活性氮原子取代金紅石型二氧化鈦(110)晶面的三配位氧,從而在材料電子結構中構造出了穿越費米能級的間隙態(tài)。這種間隙態(tài)極大促進了光生電子向二氧化鈦導帶的躍遷。論文以光還原六價鉻為示例反應,證明了修飾后的二氧化鈦表面表現(xiàn)出了極高的反應活性。

責任編輯:陳巖

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